露光装置及び露光方法、デバイス製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 青山正和 , 西和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-349940
公開番号（公開出願番号）：特開2005-191557
出願日： 2004年12月02日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：

【課題】基板テーブル上に液体が残留することを防止し、良好な露光精度を維持できる露光装置及び露光方法、デバイス製造方法を提供する。【解決手段】露光装置EXは、液体1を介して基板P上に露光光ELを照射して、基板Pを露光するものであって、基板Pを保持するための基板テーブルPTを備え、基板テーブルPTに、撥液性の平坦面30Aを有するプレート部材30が交換可能に設けられている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

液体を介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、前記基板を保持するための基板テーブルを備え、前記基板テーブルに、その表面の少なくとも一部が撥液性の部材が交換可能に設けられている露光装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68

FI (4件)：

H01L21/30 515G , G03F7/20 521 , H01L21/68 P , H01L21/30 515D

Fターム (12件)：

5F031CA02 , 5F031HA02 , 5F031HA08 , 5F031HA13 , 5F031HA33 , 5F031HA48 , 5F031MA27 , 5F031PA07 , 5F031PA23 , 5F046BA03 , 5F046CC08 , 5F046DA27

引用特許：

出願人引用 (1件)

国際公開第99/49504号パンフレット

審査官引用 (5件)

露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-185389 出願人：キヤノン株式会社
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-417260 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-169275 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

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