特許

J-GLOBAL ID：200903053621359721

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

発明者： ジョエリ ロフ ,  ハンス バトラー ,  スジョルド ニコラース ラムベルツス ドンダース ,  アレクセイ コレスニーチェンコ ,  エリック ロエロフ ロープシュトラ ,  ヘンドリクス ヨハネス マリア マイヤー ,  ヨハネス カタリヌス ヒューバーツ ムルケンス ,  ロエロフ アイルコ シーブラント リツェマ ,  フランク ファン シュアイク ,  ティモテオス フランシスクス サンジェル ,  クラウス シモン ,  ヨハネ セオドア デ スミト ,  アレクサンダー シュトラーイユエル ,  ボブ シュトレーフケルク ,  エリック セオドルス マリア ビユラールト ,  クリスティアーン アレクサンダー ホーゲンダム ,  ヘルマー ファン サンテン ,  マルクス アドリアヌス ファン デ ケルクフォフ ,  マルク クローン ,  アリー ジェフリー デン ボエフ ,  ヨーシュト ジェローン オッテンス ,  ジェローン ヨハネス ソフィア マリア メルテンス
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-169275
公開番号（公開出願番号）：特開2005-005707
出願日： 2004年06月08日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】改善された機能性を有する浸漬式リソグラフィ投影装置を提供する。【解決手段】放射線源LAをも備えた、放射線の投影ビームPBを供給するための放射線システムEx、ILと、部材PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1のオブジェクト・テーブル(マスク・テーブル)MTと、部材PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2のオブジェクト・テーブル(基板テーブル)WTと、マスクMAの照射された部分を基板Wのターゲット部分Cに結像させるための投影システムPLとを備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、 パターン形成手段を支持するための支持構造であって、該パターン形成手段が所望のパターンに従って前記投影ビームにパターンを形成するように働く支持構造と、 基板を保持するための基板テーブルと、 パターンが形成された前記ビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムと、 前記投影システムの最終要素と前記基板テーブル上に配置されたオブジェクトの間の空間の少なくとも一部分を満たすための液体供給システムと を有するリソグラフィ投影装置であって、前記浸漬液を通過した前記放射線の投影ビームによって照明されるように配置される少なくとも1つのセンサを有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 502 ,  G03F7/20 521

Fターム (7件)：

2H097CA13 ,  5F046CA04 ,  5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046FA10

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-151985   出願人：株式会社ニコン
• 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-156545   出願人：株式会社ニコン
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-339510   出願人：キヤノン株式会社
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-341445   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-237162   出願人：株式会社ニコン
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社