特許
J-GLOBAL ID：200903047341156841

エッジ検出方法、エッジ検出装置及びこれを用いた工作機械

発明者：
矢澤 孝哲

矢澤 孝哲 について

, 
前田 幸男

前田 幸男 について

, 
田村 孝至

田村 孝至 について


出願人/特許権者：
株式会社和井田製作所

株式会社和井田製作所 について


代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-236767
公開番号（公開出願番号）：特開2009-150865
出願日： 2008年09月16日
公開日（公表日）： 2009年07月09日
要約：
【課題】非接触で、加工途中のワークなどを精度高く、かつ、リアルタイムで輪郭形状を数値的に測定可能とする光学的なエッジ検出装置を提供すること【解決手段】本発明のエッジ検出方法は、光源モジュール11と、0次光の光量を遮光するアンチピンホールフィルタ25とを備えた投影光学系を備えるレンズ鏡筒13と、撮像素子26と、コンピュータとを用い、光源モジュール11の平行光を遮るように置かれたワーク17の投影画像を撮像素子で撮像し、コンピュータは、エッジ近傍の信号強度を判定し、2本の帯状の高輝度の部分に挟まれた低輝度の線状部分をエッジと判定するエッジ判定の手順を実行する。そのため、ワークのエッジを正確に検出でき、これを画像処理により数値処理することでCADやNC制御と連動させることができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
平行光を発する光源モジュールと、 該光源モジュール側に配置された対物レンズと、該対物レンズと共焦点を有するように前記光源モジュールと反対側に配置された投影レンズと、前記共焦点に配置され入射光のうちの0次光の光量を遮光するアンチピンホールフィルタとを備えた投影光学系を備えるとともに前記平行光の光軸と軸心を共通にするように配置されたレンズ鏡筒と、 該レンズ鏡筒により投影された映像を撮像するように前記光軸と直交するように配置された撮像素子と、 該撮像素子からの信号を演算処理するコンピュータとを用い、 前記平行光を遮るように前記対物レンズの前記光源モジュール側の焦点位置に置かれた対象物の投影画像を前記撮像素子で撮像し、 前記コンピュータは、前記撮像素子からの信号強度により輝度を判定し、2本の帯状の高輝度の部分に挟まれた低輝度の線状部分をエッジと判定するエッジ判定の手順を実行することを特徴とするエッジ検出方法。
IPC (1件)：
G01B 11/24
FI (1件)：
G01B11/24 D
Fターム (19件)：
2F065AA12 ,  2F065AA51 ,  2F065BB06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065FF48 ,  2F065GG02 ,  2F065GG05 ,  2F065GG07 ,  2F065GG24 ,  2F065HH03 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL21 ,  2F065LL24 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ34 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)
  • “高精度エッジ投影の研究”

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