特許
J-GLOBAL ID：200903047365360288

塗布膜の形成方法および塗布処理システム

発明者：
吉原 孝介

吉原 孝介 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-024983
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223403
出願日： 1999年02月02日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：
【要約】【課題】 各種形態で現れる塗布不良を速やかに解消して、健全な塗布膜を形成することができる塗布膜形成方法および塗布処理システムを提供すること。【解決手段】 基板上に形成された塗布膜表面に発生する局部的な塗布不良を解消するための対策を塗布不良の種類毎に予め把握しておき、基板上に塗布膜を形成して塗布膜に局部的に発生した塗布不良を検出する。そして、予め把握された塗布膜表面に発生する局部的な塗布不良を解消するための対策に基づいて、検出された塗布不良の形態に応じた対策を講じ、対策後の条件でその後の基板に塗布膜を形成する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された塗布膜表面に発生する局部的な塗布不良を解消するための対策を塗布不良の種類毎に予め把握しておく工程と、基板上に塗布膜を形成する工程と、塗布膜に局部的に発生した塗布不良を検出する工程と、前記予め把握された塗布膜表面に発生する局部的な塗布不良を解消するための対策に基づいて、検出された塗布不良の形態に応じた対策を講じる工程と、対策後の条件でその後の基板に塗布膜を形成する工程とを具備することを特徴とする塗布膜形成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502
FI (4件)：
H01L 21/30 564 D ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502
Fターム (31件)：
2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  4D075AC64 ,  4D075AC88 ,  4D075AC92 ,  4D075AC94 ,  4D075AC95 ,  4D075AC99 ,  4D075CA48 ,  4D075DA08 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042BA05 ,  4F042BA08 ,  4F042BA12 ,  4F042BA25 ,  4F042CB07 ,  4F042DD44 ,  4F042DE06 ,  4F042DH09 ,  4F042EB29 ,  4F042ED03 ,  5F046CD01 ,  5F046JA02 ,  5F046JA03 ,  5F046JA09 ,  5F046JA13 ,  5F046JA21 ,  5F046JA22
引用特許：
審査官引用 (9件)
  • 特開平2-115072
  • 処理液供給装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-282773   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 流動体供給装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-095194   出願人：株式会社日立製作所
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