特許
J-GLOBAL ID：200903047435632620

3次元形状測定方法及び測定装置

発明者：
廣重 謙司

廣重 謙司 について

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井口 潔

井口 潔 について

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山本 将之

山本 将之 について

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吉澤 徹

吉澤 徹 について


出願人/特許権者：
シチズン時計株式会社

シチズン時計株式会社 について

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有限会社ソフトロン

有限会社ソフトロン について


代理人 (1件)： 大澤 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-090427
公開番号（公開出願番号）：特開2006-275529
出願日： 2005年03月28日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：
【目的】 格子パターン投影法によって、計測対象物体の3次元形状を常に正確に効率よく計測できるようにする。【構成】 複数の計測対象物体14が設けられた平面15に対して、投影部10によって斜め方向から格子パターンLPを投影し、その格子パターンが投影された平面15を格子パターンの投影方向とは異なる方向から撮像部16によって撮像し、その撮像した明暗のパターンの2次元画像データを画像メモリ19に記憶し、データ処理部17によってそれを解析して計測対象物体14の3次元形状を測定する。投影部10は液晶格子12によって格子パターンを生成する際に、平面15上の特定の計測対象物体14の計測領域以外の領域(マスクエリアMA)に対しては、格子パターンLPを投影しないようにマスクする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の計測対象物体が設けられた面に対して斜め方向から格子パターンを投影し、該格子パターンが投影された前記面を前記格子パターンの投影方向とは異なる方向から撮像し、その撮像した明暗のパターンを解析して前記計測対象物体の3次元形状を測定する3次元形状測定方法において、 前記格子パターンを投影する際に、前記面上の特定の計測対象物体の計測領域以外には前記格子パターンを投影しないようにマスクすることを特徴とする3次元形状測定方法。
IPC (3件)：
G01B 11/25 ,  G06T 1/00 ,  G01B 11/24
FI (3件)：
G01B11/24 E ,  G06T1/00 315 ,  G01B11/24 K
Fターム (49件)：
2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065CC25 ,  2F065CC26 ,  2F065DD04 ,  2F065DD12 ,  2F065DD15 ,  2F065FF07 ,  2F065FF09 ,  2F065FF44 ,  2F065FF61 ,  2F065GG02 ,  2F065GG24 ,  2F065HH05 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ07 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL33 ,  2F065LL34 ,  2F065LL41 ,  2F065LL53 ,  2F065MM15 ,  2F065NN01 ,  2F065NN08 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2F065UU01 ,  2F065UU08 ,  5B057AA20 ,  5B057BA02 ,  5B057BA11 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB13 ,  5B057CB16 ,  5B057CC01 ,  5B057CD14 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC02 ,  5B057DC36
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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