特許
J-GLOBAL ID：200903047463536777
液晶素子の製造方法及び液晶高分子フィルム
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-072030
公開番号（公開出願番号）：特開2004-163857
出願日： 2003年03月17日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：
【課題】大面積を配向処理が簡単で、製造時間を短縮、量産化が容易な液晶素子の製法及び液晶高分子フィルムを提供する。【解決手段】配向膜(PVCi膜)2を有するPVCi基板3を作製する。該膜2にラビング処理を施し、ラビングされた該膜2の液晶配向の容易軸を、ラビング方向と垂直とする。該膜2に無偏光紫外線5を、フォトマスク4を介して5分間照射する。次に、対向基板6に、ポリイミド:PIを塗布し、加熱、ラビングされたPI膜7の液晶配向の容易軸が、ラビング方向と平行になるような、PI基板8を用いる。2枚の基板3,8の容易軸が垂直となるようにラビング方向を平行に組合わせ、2枚の基板3,8間にスペーサを分散させ液晶を封入しセルを作製する。紫外線5の照射部は液晶9が約87度ねじれたTN配向11となり、紫外線5の非照射部では、ねじれ角0°のホモジニアス配向12となる液晶セルが作製される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
(a)基板上にエネルギー線に反応する薄膜を形成する工程と、
(b)前記エネルギー線に反応する薄膜にエネルギー線を照射して前記エネルギー線に反応する薄膜表面のエネルギー線改質を行う工程と、
(c)ラビング法により液晶の配向処理を行い、液晶素子内で異なる配向状態の領域を形成する工程とを施すことを特徴とする液晶素子の製造方法。
IPC (4件)：
G02F1/1337
, G02F1/13
, G02F1/1334
, G02F1/137
G02F1/1337 505
, G02F1/13 505
, G02F1/1334
, G02F1/137 500
2H088EA48
, 2H088GA02
, 2H088GA06
, 2H088GA13
, 2H088GA14
, 2H088HA03
, 2H088JA05
, 2H088JA06
, 2H088LA02
, 2H088LA04
, 2H088MA20
, 2H089HA02
, 2H089KA02
, 2H089QA12
, 2H089RA05
, 2H089TA04
, 2H090HB13Y
, 2H090HC05
, 2H090HC11
, 2H090HC13
, 2H090HC16
, 2H090KA05
, 2H090KA06
, 2H090KA12
, 2H090MA02
, 2H090MA15
, 2H090MA16
, 2H090MB01
, 2H090MB12
