特許
J-GLOBAL ID：200903047567490167

シリカ微粒子凝集体

発明者：
森 寛

森 寛 について

, 
加藤 波奈子

加藤 波奈子 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (1件)： 真田 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-360180
公開番号（公開出願番号）：特開2003-238142
出願日： 2002年12月12日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】 細孔容積及び比表面積が大きいだけでなく、圧壊強度が低く、高比表面積及び高細孔容積で、シャープな細孔分布を有し、耐熱性,耐水性,物性安定性等にも優れ、且つ製造コストが低くて生産性にも優れるようにする。【解決手段】 細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満のシリカよりなる微粒子の凝集体であって、圧壊強度が100N以下であり、且つ、固体Si-NMRでのQ4ピークのケミカルシフトをδ(ppm)とした場合に、δが下記式(I) -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・(I)を満足するようにする。
請求項（抜粋）：
細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満のシリカよりなる微粒子の凝集体であって、圧壊強度が100N以下であり、且つ、固体Si-NMR測定におけるQ4ピークのケミカルシフト値をδ(ppm)とした場合に、δが下記式(I) -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・(I)を満足することを特徴とする、シリカ微粒子凝集体。
IPC (2件)：
C01B 33/18 ,  C01B 33/14
FI (2件)：
C01B 33/18 Z ,  C01B 33/14
Fターム (19件)：
4G072AA27 ,  4G072AA28 ,  4G072BB01 ,  4G072BB05 ,  4G072CC10 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072MM01 ,  4G072MM26 ,  4G072RR12 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072TT19 ,  4G072UU11 ,  4G072UU12 ,  4G072UU17
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特開昭62-113713号公報
  • シリカゲルの製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185171   出願人：日本シリカ工業株式会社
審査官引用 (8件)
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