特許
J-GLOBAL ID：200903047623158383

光触媒を用いた濡れ壁式水処理装置

発明者：
宮田 輝史

宮田 輝史 について

, 
加藤 泰良

加藤 泰良 について


出願人/特許権者：
バブコック日立株式会社

バブコック日立株式会社 について


代理人 (1件)： 川北 武長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-384080
公開番号（公開出願番号）：特開2002-186966
出願日： 2000年12月18日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：
【要約】光源を保護する反応器内管の汚れを防止し、光触媒作用により有害有機物を効率よく長期に安定して分解できる水処理装置を提供する。【課題】【解決手段】内管と外管とを備えた反応器と、反応器の内管中心部に設けられて紫外線を照射する光源と、反応器の外管内壁に設けられて紫外線の照射により被処理液中の有害有機物を酸化分解する光触媒体と、内管と外管の間に被処理液を供給する被処理液供給手段および処理された液を系外に排出する処理液排出手段とを備えた水処理装置において、反応器下部に被処理液を貯留する液溜めを設置し、該液溜めを介して被処理液を反応器上部に循環させる循環手段を設け、該被処理液が反応器外管内壁の光触媒体上に濡れ壁を形成して供給されるように濡れ壁形成手段を設けた光触媒を利用した濡れ壁式水処理装置。
請求項（抜粋）：
内管と外管とを備えた反応器と、該反応器の内管中心部に設けられて紫外線を照射する光源と、前記反応器の外管内壁に設けられて前記紫外線の照射により被処理液中の有害有機物を酸化分解する光触媒体と、前記内管と外管の間に被処理液を供給する被処理液供給手段および処理された液を系外に排出する処理液排出手段とを備えた光触媒を用いた水処理装置において、前記反応器下部に被処理液を貯留する液溜めを設置し、該液溜めを介して被処理液を前記反応器上部に循環させる循環手段を設けるとともに、該被処理液が前記反応器外管内壁の光触媒体上に濡れ壁を形成して供給されるように濡れ壁形成手段を設けたことを特徴とする光触媒を利用した濡れ壁式水処理装置。
IPC (5件)：
C02F 1/32 ,  B01J 35/02 ,  B01J 35/06 ,  C02F 1/72 101 ,  C07D319/24
FI (5件)：
C02F 1/32 ,  B01J 35/02 J ,  B01J 35/06 A ,  C02F 1/72 101 ,  C07D319/24
Fターム (25件)：
4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037CA12 ,  4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050AB12 ,  4D050AB19 ,  4D050BB01 ,  4D050BC06 ,  4D050BD06 ,  4D050CA07 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA14B ,  4G069BA48A ,  4G069CA05 ,  4G069DA06 ,  4G069EA09 ,  4G069EA11 ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y
引用特許：
審査官引用 (5件)
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