特許
J-GLOBAL ID：200903047659178860

光触媒酸化チタン膜およびその製造方法

発明者：
福本 昌宏

福本 昌宏 について

, 
山田 基宏

山田 基宏 について


出願人/特許権者：
国立大学法人豊橋技術科学大学

国立大学法人豊橋技術科学大学 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-147634
公開番号（公開出願番号）：特開2008-297184
出願日： 2007年06月04日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：
【課題】 二酸化チタン光触媒皮膜の形成において、有機バインダ等の結合剤を用いずに、大面積の基材に厚い膜を形成することにより、二酸化チタンの光触媒作用による、有機バインダの劣化が無く、長期間安定な光触媒皮膜を形成する。【解決手段】 凝集した形態のアナターゼ型二酸化チタンを原料粉末とし、比較的低いガス圧力及び、アナターゼ型二酸化チタンの結晶変態温度以下の温度にて、原料粉末を加熱・加速し、基材上に衝突させることにより、基材上にアナターゼ型ニ酸化チタン光触媒皮膜を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
有機バインダ等の結合剤を含まず、且つ凝集体から成るアナターゼ型ニ酸化チタン粒子を高温・高圧で吹きつけることにより成膜する光触媒酸化チタン膜の製造方法。
IPC (7件)：
C01G 23/07 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 ,  B01D 53/86 ,  C23C 14/00 ,  C23C 14/08 ,  C23C 24/08
FI (8件)：
C01G23/07 ,  B01J35/02 J ,  B01J37/02 301A ,  B01J37/02 301C ,  B01D53/36 J ,  C23C14/00 Z ,  C23C14/08 E ,  C23C24/08 C
Fターム (48件)：
4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048EA01 ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD04 ,  4G047CD07 ,  4G169AA08 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA18 ,  4G169BA48A ,  4G169CA10 ,  4G169CA13 ,  4G169EA08 ,  4G169EB18Y ,  4G169EC22X ,  4G169ED04 ,  4G169EE07 ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FB22 ,  4G169FB24 ,  4G169FC07 ,  4G169HA01 ,  4G169HB02 ,  4G169HC15 ,  4G169HD15 ,  4G169HE03 ,  4G169HE06 ,  4K029BA48 ,  4K029CA00 ,  4K029DA05 ,  4K029EA03 ,  4K029EA08 ,  4K044AA02 ,  4K044AA03 ,  4K044AB08 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BB02 ,  4K044BB13 ,  4K044BC04 ,  4K044BC14 ,  4K044CA53
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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