基板処理システムおよびその処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：片寄恭三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-103196
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297901
出願日： 2002年04月05日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】半導体ウエハーの洗浄に際して自然酸化膜やウォーターマークなどの発生を抑制することができる半導体ウエハーの搬送方法を提供する。【解決手段】本発明の半導体ウエハー搬送方法は、ハウジング100内に第1、第2の処理チャンバ110、120と乾燥ユニット130とを縦型に配し、これらの処理チャンバおよび乾燥ユニット間においてウエハーを第1の非接触保持型の搬送ロボット140で搬送し、ハウジング100とウエハーカセット160との間のウエハーを第2の非接触保持型の搬送ロボット150により行い、ガス供給口170から窒素ガスをハウジング110内に供給する。

請求項（抜粋）：

基板を処理する第1および第2の処理チャンバと、前記第1と第2の処理チャンバ間において基板の搬送を行う搬送手段とを備え、前記搬送手段は、前記基板を不活性ガス雰囲気下で実質的に非接触状態で保持する保持手段を有する、基板処理システム。

IPC (5件)：

H01L 21/68 , B65G 49/00 , B65G 49/07 , H01L 21/304 645 , H01L 21/304 648

FI (5件)：

H01L 21/68 C , B65G 49/00 A , B65G 49/07 H , H01L 21/304 645 A , H01L 21/304 648 A

Fターム (24件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031GA04 , 5F031GA10 , 5F031GA15 , 5F031GA28 , 5F031GA32 , 5F031GA36 , 5F031GA44 , 5F031GA47 , 5F031GA49 , 5F031JA02 , 5F031JA22 , 5F031LA15 , 5F031MA02 , 5F031MA23 , 5F031NA04 , 5F031NA09

引用特許：

審査官引用 (10件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-309919 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
ベルヌーイチャック及びそれを用いたウエハの搬送方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-009418 出願人：沖電気工業株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-145203 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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