特許
J-GLOBAL ID:200903047784981225

電子部品部材類製造装置用水処理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伴 俊光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-111073
公開番号(公開出願番号):特開2005-288410
出願日: 2004年04月05日
公開日(公表日): 2005年10月20日
要約:
【課題】電子部品部材類の製造において、低コスト、高品質、フレキシビリティーおよび省エネルギー化に寄与できる、超純水製造・供給システムを提供する。【解決手段】超純水を使用する目的の異なる複数のウェットプロセスを含む電子部品部材類製造装置における水処理システムにおいて、前記目的の異なる複数のウェットプロセスに対し、各々独立して超純水をそれぞれ最適なグレードの超純水として供給する複数の超純水供給系を有することを特徴とする電子部品部材類製造装置用水処理システム。【選択図】図1
請求項(抜粋):
超純水を使用する目的の異なる複数のウェットプロセスを含む電子部品部材類製造装置における水処理システムにおいて、前記目的の異なる複数のウェットプロセスに対し、各々独立して超純水を供給する複数の超純水供給系を有することを特徴とする電子部品部材類製造装置用水処理システム。
IPC (4件):
C02F9/00 ,  B01D61/02 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44
FI (12件):
C02F9/00 503B ,  C02F9/00 502D ,  C02F9/00 502F ,  C02F9/00 502H ,  C02F9/00 502J ,  C02F9/00 502M ,  C02F9/00 502N ,  C02F9/00 503A ,  C02F9/00 504A ,  B01D61/02 500 ,  C02F1/42 B ,  C02F1/44 J
Fターム (23件):
4D006GA03 ,  4D006KA01 ,  4D006KA72 ,  4D006KB01 ,  4D006KB04 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KB14 ,  4D006KB17 ,  4D006MB02 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PC02 ,  4D025AA01 ,  4D025AA04 ,  4D025AB05 ,  4D025AB06 ,  4D025DA01 ,  4D025DA02 ,  4D025DA04 ,  4D025DA05 ,  4D025DA06 ,  4D025DA10
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 特許第3200301号公報
  • 特許第3078146号公報
  • 超純水製造装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-068781   出願人:栗田工業株式会社
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審査官引用 (4件)
  • 超純水製造装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-068781   出願人:栗田工業株式会社
  • 超純水の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-349944   出願人:日東電工株式会社
  • 超純水製造装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-100004   出願人:栗田工業株式会社
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