特許
J-GLOBAL ID：200903047875617771

有機EL素子製造に用いる真空蒸着用金属マスクの保持方法及び治具

発明者：
土屋 輝直

土屋 輝直 について

, 
坂田 卓也

坂田 卓也 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 乗松 恭三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-255232
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068453
出願日： 2001年08月24日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
要約：
【要約】【課題】 有機EL素子製造における真空蒸着工程において、金属マスクを、その有効部のスリット精度を確保した状態で基板表面に配置することを可能とする方法及び治具を提供する。【解決手段】 ウインドウ14を備えたベースプレート15上に、多数のスリットを形成した有効部11Aを備えた金属マスク11を配置し、その一端をマスククランプ20でベースプレート15に固定し、他端を移動自在なスライダ23に固定し、スライダ23に圧縮コイルバネ30でばね力を付与して金属マスク11を引っ張った状態に保持することで、スリットを所定形状に維持可能な構成とする。この金属マスクの上に基板12を取り付け、蒸着を行うことで高精細なパターンを基板上に形成することができる。
請求項（抜粋）：
有機EL素子製造における真空蒸着工程において、多数の微細なスリットを微小間隔で平行に配列した有効部とその両端の保持部とを備えた真空蒸着用金属マスクを、前記スリットの長手方向に引っ張った状態で基板表面に配置することを特徴とする真空蒸着用金属マスクの保持方法。
IPC (5件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/14
FI (5件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/14 A
Fターム (26件)：
3K007AB18 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04 ,  5C094AA05 ,  5C094AA43 ,  5C094AA48 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094FA01 ,  5C094FB01 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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