特許
J-GLOBAL ID：200903060166143576

真空蒸着装置におけるマスキング装置

発明者：
藤井 稔

藤井 稔 について

, 
寺島 隆一

寺島 隆一 について

, 
平野 裕之

平野 裕之 について


出願人/特許権者：
日本真空技術株式会社

日本真空技術株式会社 について


代理人 (1件)： 清水 善▲廣▼ (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-001844
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199046
出願日： 1999年01月07日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：
【要約】【課題】成膜時における基板の割れを防止するとともに、成膜材料のマスキング部分への回り込みを防止することのできる真空蒸着装置におけるマスキング装置を提供すること。【解決手段】キャリアに設けた基板受け上に載置したガラス基板の所望箇所を被覆するマスクを有するマスキング装置であって、前記マスクを前記ガラス基板と熱膨張率が近い材料で形成し、前記マスクを前記ガラス基板と接触させて成膜する真空蒸着装置におけるマスキング装置。
請求項（抜粋）：
キャリアに設けた基板受け上に載置したガラス基板の所望箇所を被覆するマスクを有するマスキング装置であって、前記マスクを前記ガラス基板と熱膨張率が近い材料で形成し、前記マスクを前記ガラス基板と接触させて成膜することを特徴とする真空蒸着装置におけるマスキング装置。
IPC (2件)：
C23C 14/02 ,  C23C 14/24
FI (2件)：
C23C 14/02 A ,  C23C 14/24 G
Fターム (3件)：
4K029AA09 ,  4K029HA02 ,  4K029HA04
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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