回転式塗布装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚康徳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-112755
公開番号（公開出願番号）：特開2000-301043
出願日： 1999年04月20日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：

【要約】【課題】塗布ヘッドを用いて一次塗布膜を形成した後に、高速回転にともなう遠心力により二次塗布膜を形成するときに、二次塗布膜に大きな影響を与える一次塗布膜が基板回転の中央部が山形になったり、不均一な状態となることがなく、しかもより少ない塗布液で塗布できるようにする。【解決手段】平らな塗布面を上にして基板3を吸着により保持して、回転する回転テーブル4と、塗布ヘッド5と相対的に昇降する昇降装置とを備えており、塗布ヘッド5を開口部を半径とした円形塗布面を塗布する第1の塗布ヘッド5Aと、円形塗布面aを内接円とし、円形塗布面aと同じ塗布面積となる第1の環状塗布面bを塗布する第2の塗布ヘッド5Bとに少なくとも分割するとともに、回転テーブル4による基板の回転と、第1の塗布ヘッド及び前記第2の塗布ヘッドによる塗布液の定量吐出の協動により、一次塗布膜が略同じ厚さとなるように塗布する。

請求項（抜粋）：

平らな塗布面を有する基板に、所定幅の直線状の開口部を有する塗布ヘッドを用いて塗布液を定量吐出することで一次塗布膜を形成し、高速回転にともなう遠心力により前記一次塗布膜を均一に拡散して二次塗布膜を形成する回転式塗布装置であって、前記塗布面を上にして基板を吸着により保持し、回転する回転保持手段と、前記塗布ヘッドと前記回転保持手段とを相対的に昇降する昇降手段と、前記塗布ヘッドを、前記回転保持手段の回転中心を中心とし、前記開口部を半径とした円形塗布面を塗布する第1の塗布ヘッドと、前記円形塗布面の外側において、前記円形塗布面の回転中心と同じとする少なくとも1つ以上の隣接する環状塗布面に対して塗布する少なくとも1つ以上の第2の各塗布ヘッドとに分割するとともに、隣接する前記円形塗布面及び前記各環状塗布面は内周及び外周で接し、単位分の回転したときに、前記各塗布ヘッドが前記円形塗布面及び前記各環状塗布面上に描かれる各軌跡の単位面積当たりの定量吐出の協動により、前記一次塗布膜が略同じ厚さとなるように塗布することを特徴とする回転式塗布装置。

IPC (4件)：

B05C 5/00 101 , B05C 11/08 , B05D 1/40 , H01L 21/027

FI (4件)：

B05C 5/00 101 , B05C 11/08 , B05D 1/40 A , H01L 21/30 564 C

Fターム (22件)：

4D075AC64 , 4D075AC94 , 4D075CA48 , 4D075DA06 , 4D075DB01 , 4D075DB13 , 4D075DC21 , 4F041AA05 , 4F041BA13 , 4F041BA34 , 4F041BA56 , 4F042AA07 , 4F042BA03 , 4F042BA05 , 4F042BA12 , 4F042BA25 , 4F042EB09 , 4F042EB17 , 4F042EB29 , 5F046JA02 , 5F046JA03 , 5F046JA04

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開平4-332116
特開平2-295108
特開昭63-151021

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