特許
J-GLOBAL ID：200903048027128309
ガラス基板のスパッタリング方法及びスパッタリング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-150200
公開番号（公開出願番号）：特開2000-336476
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、プラズマディスプレイパネル等に使用する大型のガラス基板に対して薄膜を形成するためのスパッタリング方法及び装置に関し、基板割れを生じることなく、安定且つ確実に薄膜形成することを目的としている。【解決手段】 ガラス基板1を略垂直に保持した状態でその基板表面に薄膜を形成するスパッタリング方法において、前記ガラス基板の表面に対して直交する方向に回転するローラー5を備える基板支持部4を有し、該基板支持部4のローラー5上にガラス基板1を支持した状態で、当該基板表面に薄膜を形成処理することを特徴としている。
請求項（抜粋）：
ガラス基板を略垂直に保持した状態で、該ガラス基板の表面に薄膜を形成するスパッタリング方法において、前記ガラス基板の表面に対して直交する方向に回転するローラーを備える基板支持部を有し、該基板支持部のローラー上にガラス基板を支持した状態で、該ガラス基板の表面に薄膜を形成する処理を行なうことを特徴とするガラス基板のスパッタリング方法。
Fターム (5件)：
4K029AA09
, 4K029BD00
, 4K029CA05
, 4K029JA02
, 4K029JA06
