特許
J-GLOBAL ID：200903048086087314
位置検出装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-292313
公開番号（公開出願番号）：特開平9-134863
出願日： 1995年11月10日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：
【要約】【課題】 凹凸の段差量の極めて小さい位置検出マーク、又は凹凸の段差量が小さく且つ計測方向に非対称となった位置検出マークを使用する場合であっても高精度にその位置を検出する。【解決手段】 シート状のレーザビームに対して検出対象のウエハマークを計測方向に走査し、そのウエハマークから発生する回折光を光電変換することにより、そのウエハマークのX座標の関数としての原検出信号f(X)を得る。原検出信号f(X)に対して数値フィルタc(X)をコンボリューション演算して求めた強調信号g(X)に基づいて両側のエッジ部のスライスレベルSl,Srを求め、これらスライスレベルSl,Srと原検出信号f(X)、又は強調信号g(X)との交点の座標Xl,Xrの平均値をそのウエハマークの検出位置とする。
請求項（抜粋）：
処理対象の基板上の位置検出マークに照明光を照射し、前記位置検出マークからの戻り光を受光して該戻り光の強度に対応する検出信号を出力する検出光学系と、該検出光学系から出力される検出信号に基づいて前記位置検出マークの位置を検出する信号処理手段とを有する位置検出装置において、前記検出光学系から出力される検出信号の変化を強調する信号強調手段を設け、前記信号処理手段は、前記信号強調手段により変化が強調された信号を用いて前記位置検出マークの位置を検出することを特徴とする位置検出装置。
FI (4件)：
H01L 21/30 525 F
, H01L 21/30 525 N
, H01L 21/30 525 R
, H01L 21/30 525 W
