半導体ウエハのオゾン水洗浄システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：清水守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-226058
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058496
出願日： 1998年08月10日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】半導体ウエハからのレジストの除去時間が短縮され、効率的な洗浄を行なうことができる半導体ウエハのオゾン水洗浄システムを提供する。【解決手段】半導体ウエハのオゾン水洗浄システムにおいて、洗浄槽2とオゾン水生成装置6の間のオゾン水供給ライン4上にオゾン水を昇温するためのヒータ5を設ける。

請求項（抜粋）：

半導体ウエハのオゾン水洗浄システムにおいて、洗浄槽とオゾン水生成装置の間のオゾン水供給ライン上にオゾン水を昇温するためのヒータを設けるようにしたことを特徴とする半導体ウエハのオゾン水洗浄システム。

IPC (3件)：

H01L 21/304 648 , H01L 21/304 642 , B08B 3/08

FI (3件)：

H01L 21/304 648 G , H01L 21/304 642 E , B08B 3/08 Z

Fターム (10件)：

3B201AA02 , 3B201AB02 , 3B201BB03 , 3B201BB82 , 3B201BB85 , 3B201BB88 , 3B201BB93 , 3B201BB96 , 3B201BB98 , 3B201CB12

引用特許：

審査官引用 (8件)

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