特許
J-GLOBAL ID:200903048719291625

エッチング液管理方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-163541
公開番号(公開出願番号):特開平11-001781
出願日: 1997年06月06日
公開日(公表日): 1999年01月06日
要約:
【要約】【課題】 金属薄膜のエッチングを行うに当たり、安定したエッチング効果を得ることにより工程管理の負荷を軽減し、更にエッチング液の使用可能時間を伸ばし、且つ薬液の使用量を減らした経済的なエッチング液管理方法を提供する。【解決手段】 酸化剤としてCe<SP>4+</SP>(例えば、硝酸セリウムアンモニウム)を含有するエッチング液を用いてクロム等の金属薄膜基板のエッチングを行うに当たり、該エッチング液中のCe<SP>4+</SP>濃度を検知し、(Ce<SP>4+</SP>濃度)/(Ce<SP>4+</SP>初期濃度)を所定濃度範囲(例えば、0.5<(Ce<SP>4+</SP>濃度)/(初期Ce<SP>4+</SP>濃度)<1.5)に維持するようにCe<SP>4+</SP>を追加供給することよりなるエッチング液管理方法及び該方法を実施するための装置。
請求項(抜粋):
酸化剤としてCe4+を含有するエッチング液を用いて金属薄膜基板のエッチングを行うに当たり、該エッチング液中のCe4+濃度を検知し、(Ce4+濃度)/(Ce4+初期濃度)を所定濃度範囲に維持するようにCe4+を追加供給することを特徴とするエッチング液管理方法。
IPC (4件):
C23F 1/16 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/02
FI (4件):
C23F 1/16 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/306 Z
引用特許:
審査官引用 (6件)
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