位相シフトマスクの位相差測定方法および装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-103709
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292904
出願日： 1999年04月12日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】位相シフトマスクの位相誤差を精度よく求める手法を提供すると共に、位相精度を高めた位相シフトマスクの製造方法を提供する。【解決手段】位相シフトマスクに検出光を照射し、種々のデフォーカス位置でマスクパターン拡大像を捕らえる光学検出手段と、種々の位相差を仮定して前記の拡大像を数値予測するシミュレータ部と、検出した光学像と数値計算結果の比較からマスクの位相差を求める比較判断部とから構成され、各種のデフォーカスに対応する像寸法のフォーカス依存性を表すテーブルを作成し、このテーブルと前記信号処理による像寸法を比較して、マスクの位相を計測する。また、計測結果をマスク製造方法にフィードバックしてマスクの位相誤差を低減する。

請求項（抜粋）：

素子パターンの投影露光に用いる位相シフトマスクの位相差を測定する方法であって、前記位相シフトマスクをマスク面に垂直方向に予め指定した複数の距離だけ逐次移動させる工程と、投影露光に用いる光と同一の波長の光を前記位相シフトマスクの所定の領域に照明する工程と、前記複数の移動位置においてパターン群を拡大投影して撮像素子に取り込む工程と、前記照明領域に対応するパターン設計データを読み込んで前記複数の位置におけるパターン投影像光強度分布を位相差を変化させて数値計算する工程と、上記数値計算工程で得られた結果から位相シフト部のあるパターンと無いパターンの投影像寸法差と位相差との相関を求める工程と、前記パターンの撮像データと前記寸法の数値計算結果から前記マスクの位相差を判断する工程からなることを特徴とする位相シフトマスクの位相差測定方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 , G01J 9/00 , G01M 11/00 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 A , G03F 1/08 S , G01J 9/00 , G01M 11/00 T , H01L 21/30 502 P

Fターム (8件)：

2G086EE12 , 2H095BB03 , 2H095BB31 , 2H095BD12 , 2H095BD15 , 2H095BD19 , 2H095BD25 , 2H095BD27

引用特許：

審査官引用 (4件)

ホトマスクおよび位相差測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-302539 出願人：株式会社日立製作所
ホトマスクおよび位相差測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-014217 出願人：株式会社日立製作所
露光用マスクの位相検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-233025 出願人：株式会社東芝

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