特許
J-GLOBAL ID：200903049073593837
リソグラフィック装置、デバイス製造方法、およびその方法により製造したデバイス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-029340
公開番号（公開出願番号）：特開2002-246309
出願日： 2002年02月06日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
要約：
【要約】【課題】 露光領域全体にわたる焦点をさらに改善するリソグラフィック投影装置を制御するシステムおよび方法を提示する。【解決手段】 リソグラフィック装置において、投影レンズ・システムで利用可能なマニピュレータを使用して焦面を調整し、露光領域内のウエハ表面の形状にできるだけ一致するようにする。焦面の形状の制御を、ウエハ表面の高さおよび傾斜を決定するレベリング制御と統合することができる。
請求項（抜粋）：
リソグラフィック投影装置であって、投影放射ビームを供給する放射システムと、パターンニング手段を支持する支持構造であって、パターンニング手段が所望のパターンに応じて投影ビームをパターン化する働きをする支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投影するための投影システムを備え、前記投影システムが焦面を持ち、また焦面の形状を変化させることができる少なくとも1つの調整可能な要素を備え、照射された部分をイメージ処理するため露光時に動作する制御手段を使用し、前記調整可能要素を制御し、前記焦面の形状を変化させ、前記露光領域の表面輪郭により正確に合うようにすることを特徴とするリソグラフィック投影装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/22
, G03F 9/00
G03F 7/22 H
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 516 A
5F046BA04
, 5F046CB12
, 5F046CB25
, 5F046DA14
, 5F046DB05
