特許

J-GLOBAL ID：200903049184678025

基板処理方法

発明者： 水川 茂 ,  中田 勝利
出願人/特許権者： 住友精密工業株式会社
代理人 (1件)： 村上 智司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-195107
公開番号（公開出願番号）：特開2002-016031
出願日： 2000年06月28日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：

【要約】【課題】 微細な空隙内のすみずみまで処理液を行き渡らせて、確実に処理を行なうことができる基板処理方法を提供する。【解決手段】 微細な空隙を有する基板1に対し、霧化された処理液をノズル20から吹き付けて処理を行なう基板処理方法。前記処理液を平均粒径1μm以上60μm以下である霧状にして基板1に吹き付けることを特徴としている。

請求項（抜粋）：

微細な空隙を有する基板に対し、霧化された処理液をノズルから吹き付けて処理を行なう基板処理方法であって、前記処理液を平均粒径1μm以上60μm以下に霧化して吹き付けることを特徴とする基板処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 643 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

H01L 21/304 643 A ,  B08B 3/02 C ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 F ,  H01L 21/306 J

Fターム (32件)：

2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096GA26 ,  2H096GA31 ,  2H096HA20 ,  2H096LA02 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB24 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CD11 ,  3B201CD22 ,  5F043CC12 ,  5F043CC16 ,  5F043DD06 ,  5F043DD10 ,  5F043DD13 ,  5F043DD30 ,  5F043EE05 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE27 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046LA04 ,  5F046LA14

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 洗浄用2流体ジェットノズル及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-321963   出願人：三菱電機株式会社, 大陽東洋酸素株式会社
• 洗浄方法および洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-082234   出願人：住友重機械工業株式会社
• 基板の洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-238949   出願人：旭サナック株式会社
• 基板表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-339303   出願人：大日本スクリーン製造株式会社