マグネトロンスパッタ供給源

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：深見久郎 , 森田俊雄 , 仲村義平 , 堀井豊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-316819
公開番号（公開出願番号）：特開2004-091927
出願日： 2003年09月09日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】任意の大きさに拡張可能であり、供給源に対して固定され、面積の大きな少なくとも1つの基板において、均質な被覆厚分布の経済的実現を保証する、マグネトロンスパッタ供給源を提供する。【解決手段】マグネトロンスパッタ供給源は、互いに電気絶縁された少なくとも2つの長手ターゲット配置(3)が、ターゲット配置(3)の幅(B)よりも遥かに小さい間隔(d)で長手側に相並んで配置された、マグネトロンスパッタ供給源であって、前記ターゲット配置の各々の下側に磁石配置が設けられ、前記磁石配置が、割当てられたターゲット配置のスパッタ表面上に、時間的に変化する磁場の模様を発生させることを特徴とする。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

互いに電気絶縁された少なくとも2つの長手ターゲット配置(3)が、ターゲット配置(3)の幅(B)よりも遥かに小さい間隔(d)で長手側に相並んで配置された、マグネトロンスパッタ供給源であって、前記ターゲット配置の各々の下側に磁石配置が設けられ、前記磁石配置が、割当てられたターゲット配置のスパッタ表面上に、時間的に変化する磁場の模様を発生させることを特徴とする、マグネトロンスパッタ供給源。

IPC (3件)：

C23C14/35 , H01L21/285 , H05H1/24

FI (3件)：

C23C14/35 B , H01L21/285 S , H05H1/24

Fターム (16件)：

4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BD00 , 4K029CA06 , 4K029DC16 , 4K029DC22 , 4K029DC25 , 4K029DC40 , 4K029DC41 , 4K029DC43 , 4K029DC45 , 4M104AA10 , 4M104BB36 , 4M104DD38 , 4M104DD39 , 4M104DD42

引用特許：

審査官引用 (5件)

プラズマ発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-313369 出願人：バルツェルスアクチェンゲゼルシャフト
スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-163166 出願人：松下電器産業株式会社
マグネトロンスパツタ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-338015 出願人：株式会社日立製作所

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