特許
J-GLOBAL ID：200903049376185790

マスクブランク用のガラス基板、マスクブランク、マスクブランク用のガラス基板の製造方法、及び研磨装置。

発明者：
栃原 康孝

栃原 康孝 について

, 
小池 今朝広

小池 今朝広 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-094844
公開番号（公開出願番号）：特開2005-316448
出願日： 2005年03月29日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】 短波長光を用いて半導体デバイスを製造するのに適したマスクブランク、及び/又はマスクブランク用ガラス基板を提供する。【解決手段】 対向主表面2と、対向主表面2の外縁に隣接する端面1を有するガラス基板10であって、ガラス基板10を平面視したときに、該基板の角部10a近傍に隣接する曲面状の端面部分1fを備え、この曲面状の端面部分1fは、算術平均表面粗さRaで0.5nm以下である鏡面とされたガラス基板10。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
対向主表面と、該対向主表面の外縁に隣接する端面を有するガラス基板であって、 ガラス基板を平面視したときに、該基板の角部近傍に隣接する曲面状の端面部分を備え、この曲面状の端面部分は、算術平均表面粗さRaで0.5nm以下である鏡面とされた、マスクブランク用のガラス基板。
IPC (2件)：
G03F1/14 ,  B24B37/00
FI (2件)：
G03F1/14 A ,  B24B37/00 Z
Fターム (9件)：
2H095BA02 ,  2H095BC26 ,  3C058AA06 ,  3C058AA07 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058DA02 ,  4G059AA08 ,  4G059AC03
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特許第2585727号公報
  • 特許第2866684号公報
審査官引用 (10件)
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