特許

J-GLOBAL ID：200903049639597959

レジスト組成物

発明者： 高田 佳幸 ,  森馬 洋 ,  桑名 耕治
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-016611
公開番号（公開出願番号）：特開2003-215806
出願日： 2002年01月25日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：

【要約】【課題】ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチル重合単位又は(メタ)アクリル酸3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチル重合単位を有する樹脂を用いても溶解性に優れたレジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(I)で示される重合単位を有し、それ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、プロピレングリコールモノメチルエーテル、2-ヒドロキシイソ酪酸メチル及び3-メトキシ-1-ブタノールからなる群から選ばれた少なくとも1種を含有する溶剤と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。(式中、R1は、水素又はメチルを表し、R2は、水素又は水酸基を表す。)

請求項（抜粋）：

下式(I)で示される重合単位を有し、それ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、プロピレングリコールモノメチルエーテル、2-ヒドロキシイソ酪酸メチル及び3-メトキシ-1-ブタノールからなる群から選ばれた少なくとも1種を含有する溶剤と、酸発生剤とを含有することを特徴とするレジスト組成物。(式中、R1は、水素又はメチルを表し、R2は、水素又は水酸基を表す。)

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/28

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/28

Fターム (37件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AC08Q ,  4J100AK31S ,  4J100AK32S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08R ,  4J100AR11R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA11R ,  4J100BA16R ,  4J100BA20R ,  4J100BC04R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53R ,  4J100BC55R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-206901   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-348925   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-300944   出願人：富士写真フイルム株式会社
• フォトレジスト用高分子化合物の製造方法、及びフォトレジスト用樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-003936   出願人：ダイセル化学工業株式会社