特許
J-GLOBAL ID：200903049962683163

微小構造体およびその製造方法

発明者：
田畑 和章

田畑 和章 について

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山田 高幸

山田 高幸 について

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高橋 睦也

高橋 睦也 について

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山崎 芳文

山崎 芳文 について


出願人/特許権者：
富士ゼロックス株式会社

富士ゼロックス株式会社 について


代理人 (1件)： 平田 忠雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-245789
公開番号（公開出願番号）：特開2006-062011
出願日： 2004年08月25日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：
【課題】 従来の積層造形法では難しいとされてきた曲がり部、捻れ部等の変形部を有する構造体を簡易に形成することができる微小構造体およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基板11上に離型層12を形成し、薄膜パターン14との密着力を低下させる密着力低下領域12aを部分的に形成した後、複数の薄膜パターン14a,14b,14cを形成する。基板11とターゲット基板22とを押圧し、順次複数の薄膜パターン14a,14bをターゲット基板22側に転写する。2枚目の薄膜パターン14bと3枚目の薄膜パターン14cとを接合した後、上部ステージ21を上昇させると、3枚目の薄膜パターン14cが塑性変形を起こす。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に離型層を形成し、 前記離型層上に複数の薄膜を形成し、 前記基板とは異なる他の基板側と前記薄膜との接合・分離を繰り返すことにより、前記複数の薄膜を前記離型層から順次剥離して前記他の基板上に積層し、前記複数の薄膜からなる微小構造体を製造する方法において、 前記複数の薄膜のうち所定の薄膜を前記離型層から剥離する際に、剥離速度を制御しながら剥離することにより前記所定の薄膜の形状を変更することを特徴とする微小構造体の製造方法。
IPC (1件)：
B81C 3/00
FI (1件)：
B81C3/00
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (7件)
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