特許
J-GLOBAL ID：200903049977013377

ベストフォーカス位置検出方法とその装置、露光方法とその装置及びデバイス製造方法

発明者：
近藤 尚人

近藤 尚人 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 前田 均 ,  西出 眞吾 ,  大倉 宏一郎 ,  佐藤 美樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-291544
公開番号（公開出願番号）：特開2006-108305
出願日： 2004年10月04日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】光学系のベストフォーカス位置を高精度に検出する方法を提供する。 【解決手段】所定のパターンの像を投影光学系を介して像面近傍に形成し(ステップS10)と、そのパターン像を計測してフォーカスカーブを得る(ステップS20)。そのフォーカスカーブに4次近似関数によりラインフィッティングし(ステップS31)、極大点の両側で隣接する極小点を求め(ステップS32)、極小点の外側にデータ点が存在する場合(近似対象のデータ範囲内に極小点が存在する場合)には(ステップS33)、極小点の外側のデータ点を近似対象から削除し(ステップS34)、残ったデータ点を用いてラインフィッティング以下の処理を繰り返す。近似対象のデータ範囲内に極小点が無くなった場合の最後の近似曲線を用いて、その極大点をベストフォーカス位置として検出する(ステップS40)。 【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
投影光学系のベストフォーカス位置を検出する方法であって、 照明光により所定のパターンを照明し、該パターンの像を前記投影光学系を介して像面近傍に形成する工程と、 前記投影光学系の像面側で、前記投影光学系の光軸方向の複数の位置毎に、前記所定パターン像を計測して計測データを得る工程と、 前記複数の位置毎に計測された計測データの中から、第1計測データが計測された位置を基準として、所定の範囲内にある位置で計測された第1の複数の計測データを選択する工程と、 前記第1の複数の計測データを用いて得られた近似関数に基づいて、前記光学系のベストフォーカス位置を算出する工程とを有することを特徴とするベストフォーカス位置検出方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/00
FI (2件)：
H01L21/30 526B ,  G01B11/00 B
Fターム (18件)：
2F065AA02 ,  2F065AA03 ,  2F065AA06 ,  2F065BB02 ,  2F065CC17 ,  2F065FF10 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ17 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL28 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ29 ,  5F046BA04 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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