フォトレジストリンス用シンナー及びこれを利用したフォトレジスト膜の処理方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小野由己男 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-549146
公開番号（公開出願番号）：特表2003-518657
出願日： 2000年12月08日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】n-ブチルアセテート50乃至80重量%、プロピレングリコールアルキルエーテル及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートを含むフォトレジストリンス用シンナーを提供する。前記シンナーは人体への毒性も、環境的に望ましくない悪臭もない。その廃液と関連する廃水は容易に処理され、このシンナーを環境親和的にしている。さらに、本発明のフォトレジストシンナーは優秀なリンス能力を備えている。

請求項（抜粋）：

n-ブチルアセテート50乃至80重量%と、プロピレングリコールアルキルエーテルと、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテートとを含むフォトレジストリンス用シンナー。

IPC (3件)：

G03F 7/32 501 , G03F 7/38 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/32 501 , G03F 7/38 501 , H01L 21/30 577

Fターム (7件)：

2H096AA25 , 2H096AA28 , 2H096CA20 , 2H096DA01 , 2H096DA04 , 2H096LA30 , 5F046JA15

引用特許：

審査官引用 (7件)

レジスト洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-157248 出願人：東京応化工業株式会社
特開平2-253265
リソグラフィー用洗浄剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-167593 出願人：クラリアントジャパン株式会社

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