特許
J-GLOBAL ID：200903050147606292
有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-172253
公開番号（公開出願番号）：特開2001-351780
出願日： 2000年06月08日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、比較的大きな基体表面に湿式法でEL層を形成した場合であっても、平滑性に優れ、均一な膜厚のEL層を形成することが可能な有機EL素子の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、表面に電極層が形成された基体の上記電極層上に、発光層を含む1層もしくは複数層の有機層からなるEL層を形成する工程を含む有機EL素子の製造方法であって、上記EL層を構成する少なくとも1層の有機層を形成する工程が、有機層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記塗布工程の後に回転処理を行う回転処理工程とを有する平滑層形成工程であることを特徴とする有機EL素子の製造方法を提供する。
請求項（抜粋）：
表面に電極層が形成された基体の前記電極層上に、発光層を含む1層もしくは複数層の有機層からなるエレクトロルミネッセント層を形成する工程を含む有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法であって、前記エレクトロルミネッセント層を構成する少なくとも1層の有機層を形成する工程が、有機層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程の後に回転処理を行う回転処理工程とを有する平滑層形成工程であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
3K007AB00
, 3K007AB18
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
