電子線装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：社本一夫 , 千葉昭男 , 伊藤茂 , 星野修 , 神田藤博 , 内田博 , 宮前徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-253197
公開番号（公開出願番号）：特開2004-095281
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】本発明は、細かい欠陥を高スループット、高信頼性で検査を行う手段を提供し、そのような装置でマスク検査を行う事によりデバイス製造の歩留りを向上させるデバイス製造方法を提供する事を目的とする。【解決手段】本発明は、上記課題を解決すべく電子銃710から放出された電子線をステンシルマスク800に照射し、ステンシルマスク800を透過した電子線を電子レンズで拡大して複数の画素を有する検出器で検出して試料の画像を形成する電子線装置である。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

電子線を放出して当該電子線を試料に照射するための電子銃と、試料を透過した電子線を拡大する電子レンズと、前記拡大された電子線を検出して、試料の画像を形成する検出器とを備えたことを特徴とする電子線装置。

IPC (10件)：

H01J37/26 , G03F1/16 , G03F7/20 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/09 , H01J37/20 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01L21/027

FI (10件)：

H01J37/26 , G03F1/16 F , G03F7/20 504 , H01J37/06 A , H01J37/073 , H01J37/09 A , H01J37/20 C , H01J37/22 501A , H01J37/244 , H01L21/30 541S

Fターム (14件)：

2H095BD04 , 2H095BD14 , 2H097CA16 , 2H097LA10 , 5C001AA03 , 5C001CC01 , 5C030BB04 , 5C030BC06 , 5C030CC07 , 5C033NN01 , 5C033NN03 , 5C033NP06 , 5F056FA05 , 5F056FA10

引用特許：

審査官引用 (4件)

粒子光学コンポーネントおよび粒子光学コンポーネントを含むシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-272363 出願人：カールツァイスシュティフトゥングトレイディングアズカールツァイス
基板検査装置およびこれを備えた基板検査システム並びに基板検査装置の制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-200502 出願人：株式会社東芝
パターン欠陥検査方法および検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-269500 出願人：株式会社日立製作所

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