投影露光装置のアパーチャ形状の最適化方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：清水守 , 川合誠 , 青木俊明 , 及川泰嘉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-288304
公開番号（公開出願番号）：特開2004-128108
出願日： 2002年10月01日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】最適化の対象となるパターンのフォーカス変動マージン及び露光量変動マージンを拡大することができる投影露光装置のアパーチャ形状の最適化方法を提供する。【解決手段】投影露光装置の有効光源をアパーチャ絞りによって制限する場合において、有効光源を多数の同一な形状と大きさを持つ微小な領域に分割し、この分割された微小な領域の中央に一個の点光源を置き、各点光源に対しての複数のパターンを対象として前記投影露光装置のフォーカス変動を考慮してウエハ上での規格化像強度勾配を求め、前記投影露光装置の露光量変動とは一次の関数で関連付けられる光強度の規格化像強度勾配を指標として用い、各々のパターンに対して最適化されたアパーチャ形状の共通開口部を選択し、この共通開口部を複数のパターンに対して最適なアパーチャ形状とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

投影露光装置の有効光源をアパーチャ絞りによって制限する場合において、前記有効光源を多数の同一な形状と大きさを持つ微小な領域に分割し、該分割された微小な領域の中央に一個の点光源を置き、各点光源に対しての複数のパターンを対象として前記投影露光装置のフォーカス変動を考慮してウエハ上での規格化像強度勾配を求め、前記投影露光装置の露光量変動とは一次の関数で関連付けられる光強度の規格化像強度勾配を指標として用い、各々のパターンに対して最適化されたアパーチャ形状の共通開口部を選択し、該共通開口部を複数のパターンに対して最適なアパーチャ形状とすることを特徴とする投影露光装置のアパーチャ形状の最適化方法。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (2件)：

H01L21/30 515D , H01L21/30 516D

Fターム (2件)：

5F046BA03 , 5F046CB05

引用特許：

審査官引用 (4件)

照明を最適化する方法および投影結像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-128796 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
照明及びレチクルの最適化により、印刷ラインの形状歪みを最小化するシステム及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-016872 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
光源形状の最適化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-267415 出願人：富士通株式会社

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