特許
J-GLOBAL ID：200903050535110843

加熱蓋体を備えた熱処理ステーション

発明者：
ブオン ピー. グエン

ブオン ピー. グエン について

, 
リチャード イー. シムズ

リチャード イー. シムズ について

, 
シャオガン チュー

シャオガン チュー について


出願人/特許権者：
エフエスアイ インターナショナル インコーポレイテッド

エフエスアイ インターナショナル インコーポレイテッド について


代理人 (10件)： 萼 経夫 ,  宮崎 嘉夫 ,  舘石 光雄 ,  小野塚 薫 ,  田上 明夫 ,  ▲高▼ 昌宏 ,  中村 壽夫 ,  加藤 勉 ,  村越 祐輔 ,  小宮 知明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-535994
公開番号（公開出願番号）：特表2005-538564
出願日： 2003年08月01日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：
【課題】熱処理ステーションの加熱プラテン上で処理される加工物の温度均一性を改善する方法および装置を提供する。【解決手段】ハウジング31は、加熱プラテン38が配置された処理チャンバー34に均一に熱エネルギーを出力する追加の熱源68が組み込まれている。好ましくは、この熱源68は、ハウジング31の蓋体46内に配置されている。さらに好ましくは、加熱蓋体46は、処理チャンバー34にガスを吸排気するための流路をなす構造体116、130を含んでいる。フォトレジストの特性に関して言えば、ハウジング31、例えば蓋体46中の追加の熱源68を使用することで熱的均一性を向上することにより、線幅の制御性およびウエハ全体に渡る線の均一性が向上する。
請求項（抜粋）：
加工物を熱処理するための熱処理ステーションであって、 熱処理の間に前記加工物が載置される面を有する加熱プラテンが配置される、密閉された処理チャンバーと、蓋体アセンブリとを含み、 該蓋体アセンブリは、 前記処理チャンバーと熱伝導性接触する追加熱源を含む第1段と、 前記処理チャンバーに供給されるガスが通過する吸気前室システムの少なくとも一部、および、前記処理チャンバーから排出されるガスが通過する排気前室システムの少なくとも一部を含み、かつ前記吸気前室システムおよび前記排気前室システムの少なくとも一方が複数の放射状流路を含んでいる第2段と、を含むことを特徴とする熱処理ステーション。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  H05B3/68
FI (2件)：
H01L21/30 566 ,  H05B3/68
Fターム (15件)：
3K092PP20 ,  3K092QA05 ,  3K092QB02 ,  3K092QB31 ,  3K092QB59 ,  3K092QC59 ,  3K092RF02 ,  3K092RF03 ,  3K092RF14 ,  3K092RF26 ,  3K092SS14 ,  3K092SS30 ,  3K092VV22 ,  5F046KA04 ,  5F046KA05
引用特許：
審査官引用 (4件)
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