特許
J-GLOBAL ID：200903050588167839

基板処理装置及び基板処理方法及び基板の製造方法

発明者：
伊藤 美岳

伊藤 美岳 について


出願人/特許権者：
伊藤 美岳

伊藤 美岳 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-170284
公開番号（公開出願番号）：特開2002-329661
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】最小単位の装置のブロック構成化を図ることにより装置の配置構成に自由度を向上させ、装置構成上の問題を伴うことなく装置全体の小型化が向上し装置全体のフットプリントを小さくすること。【解決手段】被処理基板Gに対して所定の処理を施す処理部を一方向に複数配置して構成された処理部配置部21〜23,と、この処理部配置部内に設けられ前記被処理基板を搬送する第1の搬送機構と、この処理部配置部外かつ前記一方のほぼ延長線上に固定してまたは前記一方向のほぼ延長線上に対して直交する方向に固定してまたは/及び前記一方向の延長線上と平行する線上を移動自在に設けられ前記第1の搬送機構に対して直接或いは間接的に前記被処理基板を受け渡し自在に構成された第2の搬送機構11〜15,と、を具備する。
請求項（抜粋）：
被処理基板に対して所定の処理を施す処理部を一方向に複数配置して構成された処理部配置部と、この処理部配置部内に設けられ前記被処理基板を搬送する第1の搬送機構と、この処理部配置部外かつ前記一方向のほぼ延長線上に固定してまたは前記一方向のほぼ延長線上に対して直交する方向に固定してまたは/及び前記一方向の延長線上と平行する線上を移動自在に設けられ前記第1の搬送機構に対して直接或いは間接的に前記被処理基板を受け渡し自在に構成された第2の搬送機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (7件)：
H01L 21/027 ,  B65G 49/00 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68
FI (7件)：
B65G 49/00 A ,  B65G 49/06 Z ,  B65G 49/07 B ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 562
Fターム (31件)：
2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  2H025FA12 ,  2H096AA25 ,  2H096AA28 ,  2H096GA24 ,  2H096GA60 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA53 ,  5F031HA13 ,  5F031HA28 ,  5F031HA33 ,  5F031MA02 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA30 ,  5F031NA09 ,  5F031NA17 ,  5F031PA18 ,  5F031PA26 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27 ,  5F046KA07 ,  5F046LA11
引用特許：
審査官引用 (11件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-256565   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板現像装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-322420   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-314586   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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