特許
J-GLOBAL ID：200903006049009457

基板処理装置

発明者：
寺内 健一

寺内 健一 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-314586
公開番号（公開出願番号）：特開平10-154652
出願日： 1996年11月26日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：
【要約】【課題】 装置が設置されるフロアー面積を低減させるとともに、AGVによる基板搬送時の基板の汚染を抑制すること。【解決手段】 洗浄部20では、基板W1をほぼ水平に支持するとともにこの基板W1を水平方向に搬送させつつ、この基板W1上に洗浄液を供給し、基板W1に供給された洗浄液を乾燥処理する。レジスト塗布現像部30では、基板W1上にレジストを塗布したり、露光後のレジストを現像する。この洗浄部20には、基板受渡部IFが設けられており、洗浄部20とレジスト塗布現像部30との間で受け渡しされる基板W1を受け取るとともに、一旦蓄積させるリフタ28や、このリフタ28を介して洗浄部20とレジスト塗布現像部30との間で基板W1を受け渡しする搬送ロボットTRを備える。
請求項（抜粋）：
基板に所定の処理を施す基板処理装置において、前記基板をほぼ水平に支持するとともに当該基板を所定の方向に搬送させつつ、当該基板の主面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、当該洗浄液供給手段によって前記基板に供給された前記洗浄液を乾燥処理する乾燥手段とを有する第1処理部と、前記基板の主面にレジストを塗布する塗布ユニットを含む複数の処理ユニットを有する第2処理部と、前記第1処理部と前記第2処理部との間で、受け渡しされる前記基板を一旦蓄積するバッファ手段と、当該バッファ手段を介して前記第1処理部と前記第2処理部との間で前記基板を受け渡しする受渡手段とを有する基板受渡部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  B08B 1/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68
FI (6件)：
H01L 21/30 564 C ,  B08B 1/04 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 569 D
引用特許：
審査官引用 (11件)
  • 基板搬送装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-249617   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • エアナイフ乾燥方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-040189   出願人：日本電気株式会社
  • 板状体の搬送装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-110421   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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