特許

J-GLOBAL ID：200903050658423404

真空処理装置

発明者： 内野 武男 ,  中村 勤 ,  小林 満知明
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 特許業務法人第一国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-281067
公開番号（公開出願番号）：特開2007-095856
出願日： 2005年09月28日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：

【課題】 ウエハの処理の効率または装置への作業の効率を向上させた真空処理装置を提供する。【解決手段】 減圧された内部に供給された処理用ガスを用いて生成したプラズマを用いて前記内部に配置された試料を処理する真空容器と、雰囲気圧下で前記真空容器と連結されて配置されこの真空容器で処理される試料がその内部の空間で搬送される搬送容器と、この搬送容器内に前記雰囲気の流れを生成するための送風機及び前記搬送容器に配置された排出口と、前記搬送容器内の前記流れ中に配置され前記真空容器で処理された後の試料が収納される収納容器と、この収納容器内の気体を排気する排気手段とを備えた試料処理装置。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

減圧された内部に供給された処理用ガスを用いて生成したプラズマを用いて前記内部に配置された試料を処理する真空容器と、 雰囲気圧下で前記真空容器と連結されて配置されこの真空容器で処理される試料がその内部の空間で搬送される搬送容器と、 この搬送容器内に前記雰囲気の流れを生成するための送風機及び前記搬送容器に配置された排出口と、 前記搬送容器内の前記流れ中に配置され前記真空容器で処理された後の試料が収納される収納容器と、 この収納容器内の気体を排気する排気手段とを備えた真空処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/677 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/02

FI (4件)：

H01L21/68 A ,  B65G49/07 L ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/02 Z

Fターム (20件)：

5F004AA13 ,  5F004BC05 ,  5F004BD01 ,  5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031EA14 ,  5F031EA20 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA04 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031NA02 ,  5F031NA16 ,  5F031NA18 ,  5F031PA26

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 真空処理装置の運転方法及びウエハの処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-266245   出願人：株式会社日立製作所, 日立テクノエンジニアリング株式会社
• マルチチャンバプロセス装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-163283   出願人：ソニー株式会社
• プラズマ処理装置および処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-223854   出願人：株式会社日立製作所, 日立笠戸エンジニアリング株式会社

審査官引用 (3件)

• 基板搬送機構および基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-175089   出願人：株式会社日立国際電気
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-100584   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-138665   出願人：大日本スクリーン製造株式会社