特許
J-GLOBAL ID：200903050855030490

液状物質の連続処理方法、連続処理装置及びそれらにより処理された液状物質

発明者：
筬島 豊

筬島 豊 について

, 
下田 満哉

下田 満哉 について

, 
三宅 正起

三宅 正起 について


出願人/特許権者：
株式会社島津製作所

株式会社島津製作所 について


代理人 (1件)： 小林 良平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-127082
公開番号（公開出願番号）：特開2001-299303
出願日： 2000年04月27日
公開日（公表日）： 2001年10月30日
要約：
【要約】【課題】 超臨界または亜臨界状態の液体二酸化炭素を用いた液状原料の連続処理方法及び装置において、小型の処理槽でも高い殺菌効率や酵素失活効率が得られるようにする。【解決手段】 連続的に供給される液状原料に液体二酸化炭素を溶解させるための溶解槽101、液体二酸化炭素を溶解させた液状原料を一定時間保持することにより液体二酸化炭素を液状原料中の酵素や細菌等に浸透させるための溶解槽101、及び、保持槽102からの液状原料を所定温度、所定圧力条件下に維持することにより二酸化炭素を超臨界又は亜臨界状態にする処理槽106を別個に設ける。
請求項（抜粋）：
液状食品などの液状原料を超臨界又は亜臨界流体を用いて連続的に処理する連続処理方法であって、連続的に供給される液状原料中に液体二酸化炭素を連続的に供給して、液状原料中に液体二酸化炭素を溶解させる溶解工程と、溶解工程にて液体二酸化炭素を溶解させた液状原料を一定時間保持する保持工程と、液体二酸化炭素が溶解した液状原料を所定温度、所定圧力条件下に維持することにより二酸化炭素を超臨界又は亜臨界状態にする臨界処理工程と、臨界処理工程を通過した液状原料を急速に減圧して二酸化炭素を除去するとともに製品を回収する減圧工程と、を有することを特徴とする液状物質の連続処理方法。
IPC (6件)：
A23L 3/3418 ,  A23L 1/015 ,  A23L 1/025 ,  A23L 2/42 ,  B01J 3/02 101 ,  C12H 1/16
FI (6件)：
A23L 3/3418 ,  A23L 1/015 ,  A23L 1/025 ,  B01J 3/02 101 A ,  C12H 1/16 ,  A23L 2/00 N
Fターム (35件)：
4B017LC07 ,  4B017LC10 ,  4B017LG04 ,  4B017LK04 ,  4B017LL09 ,  4B017LP12 ,  4B021LA42 ,  4B021LP01 ,  4B021LP07 ,  4B021LP08 ,  4B021LT01 ,  4B021LW06 ,  4B021LW10 ,  4B021MC01 ,  4B021MK13 ,  4B021MP05 ,  4B021MP06 ,  4B021MQ03 ,  4B021MQ04 ,  4B021MQ05 ,  4B028AC10 ,  4B028AG05 ,  4B028AG06 ,  4B028AG09 ,  4B028AP24 ,  4B028AP28 ,  4B028AP29 ,  4B028AS01 ,  4B035LC02 ,  4B035LE03 ,  4B035LG01 ,  4B035LP01 ,  4B035LP44 ,  4B035LP55 ,  4B035LT18
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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