特許
J-GLOBAL ID：200903050882519506

プラズマ処理装置

発明者：
河西 繁

河西 繁 について

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長田 勇輝

長田 勇輝 について

, 
荻野 貴史

荻野 貴史 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-293529
公開番号（公開出願番号）：特開2004-128385
出願日： 2002年10月07日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】伝送損失の少ないマイクロ波発振器を備えたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマエッチング装置1は、ウエハWを収容するチャンバ11と、チャンバ11内に処理ガスを供給するガス供給装置27と、チャンバ11内にプラズマ生成用のマイクロ波を導入するマイクロ波導入装置50を具備し、マイクロ波導入装置50は、マイクロ波発振器30と、アンテナ13a〜13dからなるアンテナ部13とを有する。マイクロ波発振器30は所定電力のマイクロ波を出力する4つアンプ部33を有し、各アンプ部33から各アンテナ13a〜13dに所定電力のマイクロ波が伝送される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理基板を収容するチャンバと、 前記チャンバ内に処理ガスを供給するガス供給装置と、 前記チャンバ内にプラズマ生成用のマイクロ波を導入するマイクロ波導入装置と、 を具備し、 前記マイクロ波導入装置は、 複数の所定出力のマイクロ波を出力するマイクロ波発振器と、 前記マイクロ波発振器から発振された複数のマイクロ波のそれぞれが伝送されるアンテナを複数有するアンテナ部と、 を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L21/3065 ,  B01J19/08 ,  C23C16/511 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46
FI (6件)：
H01L21/302 101D ,  B01J19/08 H ,  C23C16/511 ,  H01L21/31 C ,  H05H1/46 B ,  H05H1/46 R
Fターム (21件)：
4G075AA30 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4K030DA04 ,  4K030FA02 ,  4K030KA41 ,  4K030KA46 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB18 ,  5F004BB32 ,  5F004BD01 ,  5F004BD03 ,  5F004BD04 ,  5F045AA08 ,  5F045AB34 ,  5F045BB08 ,  5F045EH02
引用特許：
審査官引用 (5件)
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