特許
J-GLOBAL ID：200903051020178158
構造体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山下 穣平
, 志村 博
, 永井 道雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-215774
公開番号（公開出願番号）：特開2005-054269
出願日： 2004年07月23日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【課題】 任意の基板上に形成され、且つ、重合部位を有する界面活性剤を含む構造体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板上に形成され、且つ、柱状メソ細孔がハニカム状に配列した構造を有する構造体において、該柱状メソ細孔が一方向に配向しており、かつ該柱状細孔中に共役高分子化合物が形成されている。好ましい態様では、該柱状メソ細孔中において、共役高分子化合物の高分子鎖の平均的方向が一方向に揃っている。該高分子化合物が、ポリジアセチレン誘導体、ポリピロール誘導体、またはポリチオフェン誘導体のいずれかである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に柱状の細孔を有する層を備え、
前記柱状の細孔が前記基板と前記層との境界面に対して平行に位置し、且つ前記柱状の細孔中に界面活性剤としての機能を有する導電性の高分子化合物が担持されていることを特徴とする構造体。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
4K044AA11
, 4K044BA21
, 4K044CA60
