特許
J-GLOBAL ID:200903051050225878
イオン源,開孔形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
本庄 武男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-074800
公開番号(公開出願番号):特開2006-260880
出願日: 2005年03月16日
公開日(公表日): 2006年09月28日
要約:
【課題】 原料ガスを高圧噴射させるための微小開孔やイオンを引き出すための開孔の形状を改良することにより,プラズマ発生効率及びイオン引き出し効率を向上させること。 【解決手段】 微小開孔9aが設けられたアノード電極2aとイオン引き出し開孔52aが設けられたカソード電極5aとの間に電圧を印加することによって,上記微小開孔9aから上記イオン引き出し開孔52aに向かって原料ガスを高圧噴射させ,この噴射された原料ガスをプラズマ化すると共に上記イオン引き出し開孔52aからイオンを引き出すように構成されたイオン源X1において,微小開孔9aを上記原料ガスの高圧噴射される方向に向かって略先細り状に形成する。また,上記イオン引き出し開孔52aをイオンが引き出される方向に向かって略末広がり状に形成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
微小開孔が設けられたアノード電極とイオン引き出し開孔が設けられたカソード電極との間に電圧を印加することにより,上記微小開孔から上記イオン引き出し開孔に向かって高圧噴射された原料ガスをプラズマ化してなるイオン源であって,
上記微小開孔が,上記原料ガスの高圧噴射される方向に向かって略先細り状に形成されてなることを特徴とするイオン源。
IPC (3件):
H01J 27/02
, H01J 9/02
, H01J 37/08
FI (3件):
H01J27/02
, H01J9/02 S
, H01J37/08
Fターム (4件):
5C030DD10
, 5C030DE04
, 5C030DG05
, 5C030DG09
引用特許:
出願人引用 (1件)
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イオン源
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-093213
出願人:株式会社神戸製鋼所
審査官引用 (2件)
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イオン源
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-140318
出願人:株式会社神戸製鋼所
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質量分析装置及びイオン源
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-058527
出願人:株式会社日立製作所
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