特許
J-GLOBAL ID：200903051284445405
化学増幅型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-034836
公開番号（公開出願番号）：特開平7-244378
出願日： 1994年03月04日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】 遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)を光源として用いる露光領域において、塗布性、焦点深度、感度及び解像度等の諸性能に優れた化学増幅型レジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、架橋剤、N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤及び低重合度ポリシロキサンを含むことを特徴とする化学増幅ネガ型フォトレジスト組成物、並びに、アルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤、N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤及び低重合度ポリシロキサンを含むことを特徴とする化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂、架橋剤、N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤及び低重合度ポリシロキサンを含むことを特徴とする化学増幅ネガ型レジスト組成物。
IPC (9件)：
G03F 7/038 505
, C08K 5/46
, C08L 83/04 LRW
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/031
, G03F 7/039
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
