特許
J-GLOBAL ID:200903051468431768
有機EL素子の作製方法およびシステム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
谷 義一
, 阿部 和夫
, 橋本 傳一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-161963
公開番号(公開出願番号):特開2004-014146
出願日: 2002年06月03日
公開日(公表日): 2004年01月15日
要約:
【課題】より少ない工程数で、高精細に分離した陰極を作製することができるパッシブマトリクス駆動有機EL素子の陰極形成方法の提供。【解決手段】基板上にラインパターンを有する陽極を形成する工程と、陽極を形成した前記基板上に有機EL発光層を形成する工程と、マスクとして複数本の耐熱性金属のワイヤを用いて、有機EL発光層上に陽極のラインパターンと直交する方向に延びるラインパターンを有する陰極を形成する工程とを具えたことを特徴とする有機EL素子の作製方法。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
基板上にラインパターンを有する陽極を形成する工程と、
陽極を形成した前記基板上に有機EL発光層を形成する工程と、
マスクとして複数本の耐熱性金属のワイヤを用いて、有機EL発光層上に前記陽極のラインパターンと直交する方向に延びるラインパターンを有する陰極を形成する工程と
を具えたことを特徴とする有機EL素子の作製方法。
IPC (3件):
H05B33/10
, C23C14/04
, H05B33/14
FI (3件):
H05B33/10
, C23C14/04 A
, H05B33/14 A
Fターム (12件):
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA01
, 4K029BA04
, 4K029BA62
, 4K029CA05
, 4K029HA02
, 4K029HA03
引用特許: