特許
J-GLOBAL ID:200903051518895191

感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法および電子部品

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-143166
公開番号(公開出願番号):特開2003-337415
出願日: 2002年05月17日
公開日(公表日): 2003年11月28日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、厚膜でも感度が良いポジ型の耐熱性感光性重合体組成物およびこの組成物を用いたレリーフパターンの製造法、並びにこれを用いた電子部品を提供する。【解決手段】 (a)アミノ基末端を実質含まず保護された酸性基を含むポリイミド前駆体またはポリイミドおよび(b)光照射により酸を発生し、保護された酸性基から保護基を脱離させうる化合物を含有してなる感光性重合体組成物およびこの組成物を用いたレリーフパターンの製造法、並びにこれを用いた電子部品。
請求項(抜粋):
(a)アミノ基末端を実質含まず保護された酸性基を含むポリイミド前駆体またはポリイミドおよび(b)光照射により酸を発生し、保護された酸性基から保護基を脱離させうる化合物を含有してなる感光性重合体組成物。
IPC (4件):
G03F 7/039 601 ,  C08G 73/10 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/312
FI (4件):
G03F 7/039 601 ,  C08G 73/10 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/312 D
Fターム (100件):
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB25 ,  2H025CB41 ,  2H025CB47 ,  2H025DA01 ,  2H025FA01 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J043PA02 ,  4J043PA19 ,  4J043PC015 ,  4J043PC016 ,  4J043PC075 ,  4J043QB15 ,  4J043QB23 ,  4J043QB25 ,  4J043QB26 ,  4J043QB31 ,  4J043QB32 ,  4J043QB34 ,  4J043RA05 ,  4J043RA24 ,  4J043RA34 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SA43 ,  4J043SA62 ,  4J043SA71 ,  4J043SA85 ,  4J043SB01 ,  4J043TA07 ,  4J043TA12 ,  4J043TA22 ,  4J043TA32 ,  4J043TA43 ,  4J043UA032 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA132 ,  4J043UA141 ,  4J043UA151 ,  4J043UA152 ,  4J043UA261 ,  4J043UA262 ,  4J043UA362 ,  4J043UB011 ,  4J043UB021 ,  4J043UB061 ,  4J043UB121 ,  4J043UB122 ,  4J043UB131 ,  4J043UB141 ,  4J043UB152 ,  4J043UB281 ,  4J043UB301 ,  4J043UB302 ,  4J043UB312 ,  4J043UB401 ,  4J043UB402 ,  4J043VA011 ,  4J043VA021 ,  4J043VA022 ,  4J043VA031 ,  4J043VA041 ,  4J043VA051 ,  4J043VA061 ,  4J043VA062 ,  4J043VA091 ,  4J043VA102 ,  4J043XA16 ,  4J043XA19 ,  4J043XB02 ,  4J043XB05 ,  4J043XB14 ,  4J043XB27 ,  4J043YA06 ,  4J043YA13 ,  4J043YA23 ,  4J043YA28 ,  4J043ZA06 ,  4J043ZA12 ,  4J043ZA31 ,  4J043ZB11 ,  4J043ZB22 ,  4J043ZB60 ,  5F058AC02 ,  5F058AC07 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02 ,  5F058AH03
引用特許:
審査官引用 (9件)
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