特許
J-GLOBAL ID：200903051605499162
マスクブランクの製造方法、及びマスクブランク製造用スパッタリングターゲット
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-002524
公開番号（公開出願番号）：特開2005-194581
出願日： 2004年01月07日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
【課題】 ボンディング剤に加わる熱の影響及びボンディング剤に加わる重力の影響によって、前記ボンディング剤が溶出する現象が起こる場合に、かかるボンディング剤由来の異物の発生を防止又は低減することを可能とする。【解決手段】ターゲット材4を接合する部分がベース部5’に対して凸状に突出した全体形状が凸状の構造のバッキングプレート5を有し、前記バッキングプレート5におけるターゲット材4を接合する部分の面積よりも表面積の大きいターゲット材4を、前記ターゲット材4を接合する部分から全周に渡り張り出すようにして、前記ターゲット材4を接合する部分にボンディング剤30を介在させて接合した構造を有し、 前記2つの構造の組み合わせによって形成される凹部に、ボンディング剤30の溶出を封止し得るように、好ましくは、ターゲット材4の張り出し部分の冷却効率が損なわれないように、金属40を付着させた構造を有するマスクブランク製造用スパッタリングターゲット、このターゲットを用いたマスクブランクの製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上にマスクパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクの製造方法において、
前記薄膜は、スパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法で形成するものとし、
前記スパッタリングターゲットとして、ターゲット材とバッキングプレートとがボンディング剤を介して接合されてなり、かつ、前記スパッタリングターゲットの側壁に、前記ボンディング剤の露出を防ぐように金属膜が形成されたスパッタリングターゲットを用いることを特徴とするマスクブランクの製造方法。
IPC (3件)：
C23C14/34
, G03F1/08
, H01L21/027
C23C14/34 B
, C23C14/34 A
, G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BB25
, 2H095BB31
, 2H095BC05
, 2H095BC08
, 4K029BA21
, 4K029CA05
, 4K029DC01
, 4K029DC04
, 4K029DC07
, 4K029DC21
, 4K029DC22
, 4K029DC24
出願人引用 (2件)
審査官引用 (6件)
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