特許

J-GLOBAL ID：200903051617371617

酸性エッチング液再生方法及び酸性エッチング液再生装置

発明者： 梅枝 孝道 ,  北川 悌也
出願人/特許権者： 長瀬産業株式会社 ,  ナガセシィエムエステクノロジー株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  三上 敬史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-188579
公開番号（公開出願番号）：特開2006-013158
出願日： 2004年06月25日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：

【課題】 蓚酸含有エッチング液の全量交換の頻度を低減させることが可能な蓚酸含有エッチング液再生方法及び蓚酸含有エッチング液再生装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明では、ITOのエッチングに使用した蓚酸含有エッチング液をNF膜25によりろ過して透過液と非透過液とに分離するろ過工程を備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ITOのエッチングに使用した酸性エッチング液をNF膜によりろ過して透過液と非透過液とに分離するろ過工程を備える酸性エッチング液再生方法。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  C23F 1/46

FI (2件)：

H01L21/306 J ,  C23F1/46

Fターム (18件)：

4K057WA18 ,  4K057WB20 ,  4K057WE01 ,  4K057WE02 ,  4K057WE04 ,  4K057WE08 ,  4K057WE09 ,  4K057WE12 ,  4K057WE14 ,  4K057WH10 ,  4K057WM19 ,  4K057WN02 ,  5F043AA21 ,  5F043BB14 ,  5F043EE01 ,  5F043EE24 ,  5F043EE25 ,  5F043EE33

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 積層型の透明導電膜、及びその透明導電膜のパターニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-260927   出願人：株式会社アルバック, アルバック成膜株式会社

審査官引用 (4件)

• 平面表示装置用基板または半導体素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-150115   出願人：株式会社東芝
• 廃酸溶液の酸回収方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-130835   出願人：日本パーカライジング株式会社, 川原拓夫
• エッチング液管理方法およびエッチング液管理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-300898   出願人：ナガセシィエムエステクノロジー株式会社
• 現像廃液再生装置及び現像廃液再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-167354   出願人：長瀬産業株式会社, 日本アブコー株式会社, ナガセ電子機器サービス株式会社