特許
J-GLOBAL ID:200903051635261900

ピッチ増倍コンタクトを形成する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 野村 泰久 ,  大菅 義之
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-529144
公開番号(公開出願番号):特表2009-506576
出願日: 2006年08月28日
公開日(公表日): 2009年02月12日
要約:
集積回路内で使用するための導電性および/または半導電性のフィーチャを形成する方法を開示する。種々のパターン転写ステップおよびエッチング・ステップをピッチ縮小技術と組み合わせて用いて、高密度実装フィーチャを生成することができる。フィーチャは、1つの方向に縮小ピッチを有し、別の方向に広いピッチを有することができる。従来のフォトリソグラフィ・ステップをピッチ縮小技術と組み合わせて用いて、たとえばビット線コンタクト(732)など、細長いピッチ縮小フィーチャを形成することができる。いくつかの実施形態では、コンタクト(732)は、マスキング材料の複数の層が上にある絶縁層(334)を設けることによって形成することができる。次に、一連の選択的に画定可能な線(124)をマスキング材料中に形成することができ、そこでその線がパターンを有する。次に、スペーサ材料(170)を使用して線に対してピッチ縮小を実施すると、スペーサ軸に沿って延びるピッチ縮小マスキング線(175)を生成することができる。したがって、ピッチ縮小空所によって各ピッチ縮小マスキング線(175)を分離することができる。次に、マスキング・フィーチャの一部分と交差するフォトレジストの第2のパターン(たとえば第2のマスク480のパターン)を付けることができる。第2のパターンは、ピッチ縮小マスキング線(175)、および隣接するピッチ縮小空所をフォトレジストで覆われないままにする窓(482)を有することができる。窓(482)は、ピッチ縮小マスキング線の長軸に対して平行ではない長軸を有することができる。次に、一部にはピッチ縮小空所によって画定された第3のパターンを介して絶縁層(334)をエッチングすると、絶縁層(334)中にコンタクトビア(584)を生成することができる。コンタクトビア(584)を導電材料で充填して電気コンタクト(732)を生成することができる。【選択図】図19
請求項(抜粋):
集積回路内に導電フィーチャを作製する方法であって、 フォトリソグラフィを用いて、あるピッチを有する複数の線をマスク材料中に形成するステップと、 前記複数の線の上にスペーサ材料を付けるステップと、 スペーサ・エッチングを実施して、前記複数の線と比べて縮小されたピッチを有し、スペーサ軸に沿って延びるスペーサのパターンを生成するステップと、 前記スペーサのパターンに、開口を有するフォトリソグラフィ・マスク・パターンを付けるステップであって、前記開口が前記長いスペーサ軸と交差する長軸を有する、ステップと、 前記マスク・パターンまたは前記スペーサのパターンのどちらによってもマスクされていない下にある層の一部分をエッチング除去して、前記下にある層内に溝を生成するステップと、 前記溝を導電材料で充填して前記導電フィーチャを生成するステップと、 前記マスキング材料およびスペーサ材料を選択的に除去するステップと、 を含む方法。
IPC (5件):
H01L 21/768 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/115 ,  H01L 29/788 ,  H01L 29/792
FI (3件):
H01L21/90 C ,  H01L27/10 434 ,  H01L29/78 371
Fターム (68件):
5F033HH08 ,  5F033HH09 ,  5F033HH11 ,  5F033HH12 ,  5F033JJ04 ,  5F033JJ08 ,  5F033JJ11 ,  5F033JJ18 ,  5F033JJ19 ,  5F033JJ25 ,  5F033JJ32 ,  5F033KK01 ,  5F033NN06 ,  5F033NN07 ,  5F033PP06 ,  5F033PP07 ,  5F033PP14 ,  5F033PP27 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ11 ,  5F033QQ12 ,  5F033QQ16 ,  5F033QQ25 ,  5F033QQ28 ,  5F033QQ30 ,  5F033QQ31 ,  5F033QQ34 ,  5F033QQ37 ,  5F033QQ48 ,  5F033QQ49 ,  5F033RR01 ,  5F033RR03 ,  5F033RR04 ,  5F033RR08 ,  5F033RR09 ,  5F033RR15 ,  5F033SS04 ,  5F033VV16 ,  5F033XX03 ,  5F083EP76 ,  5F083ER21 ,  5F083GA09 ,  5F083GA27 ,  5F083JA35 ,  5F083JA36 ,  5F083JA37 ,  5F083JA39 ,  5F083JA40 ,  5F083JA56 ,  5F083JA60 ,  5F083KA01 ,  5F083KA05 ,  5F083LA11 ,  5F083MA05 ,  5F083MA06 ,  5F083MA19 ,  5F083NA01 ,  5F083PR03 ,  5F083PR06 ,  5F083PR07 ,  5F083PR10 ,  5F083PR40 ,  5F083ZA21 ,  5F101BD34 ,  5F101BD35 ,  5F101BH13 ,  5F101BH30
引用特許:
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る