特許
J-GLOBAL ID：200903051793224035

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
上川 裕二

上川 裕二 について

, 
田中 幸二

田中 幸二 について

, 
江頭 浩司

江頭 浩司 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-326084
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144038
出願日： 1999年11月16日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：
【要約】【課題】 基板の処理空間が大型化することなく、かつ基板の搬入出を容易に行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。【解決手段】 複数のウエハWを保持するロータ24と、ロータ24を収容可能な処理チャンバー26,27と、処理チャンバー26,27外であってロータ24の下方位置に設けられ、キャリアCを待機可能なキャリア待機部30と、昇降可能に設けられ、キャリア待機部30にあるキャリアC内の複数のウエハWを上方に押し上げて移動させロータ24に保持させ、またはロータ24にある複数のウエハWを降下させてキャリア待機部30にあるキャリアC内に収納させるウエハ移動機構40と、キャリア待機部30にキャリアCを搬入し、キャリア待機部30からキャリアCを搬出するキャリア搬送機構35とを具備し、処理チャンバー26,27内でロータ24に保持された複数のウエハWに対して所定の処理が施される。
請求項（抜粋）：
複数の基板に所定の処理を施す基板処理部と、前記基板処理部の下方位置に設けられ、複数の基板を待機可能な基板待機部と、昇降可能に設けられ、前記基板待機部にある複数の基板を上方に突き上げて前記基板処理部に移動させ、または前記基板処理部にある複数の基板を降下させて前記基板待機部に保持させる基板移動機構とを具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/68
FI (2件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/68 D
Fターム (16件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA09 ,  5F031FA20 ,  5F031FA22 ,  5F031GA49 ,  5F031HA25 ,  5F031HA29 ,  5F031HA72 ,  5F031JA45 ,  5F031LA15 ,  5F031MA23
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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