特許
J-GLOBAL ID：200903085253800217
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-326781
公開番号（公開出願番号）：特開2006-140494
出願日： 2005年11月11日
公開日（公表日）： 2006年06月01日
要約：
【課題】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】局部空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、局部空間の平面図の形状が実質的に基板と平行の実質的に多角形である。一実施例では、空間の2つの角の曲率半径が、液体を含有するようになされた空間と、液体を含有するようになされていない周囲との間の移行ゾーンの幅以下である。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
基板と隣接する空間であって、その平面図の形状が前記基板より小さく、且つ、その平面図の形状が実質的に前記基板と平行の実質的に多角形である空間に液体を拘束するようになされた液体拘束構造を備えた、パターンをパターン化デバイスから前記基板へ前記液体を介して投影するようになされたリソグラフィ投影装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
5F046AA28
, 5F046CB24
, 5F046CB27
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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