半導体基板の洗浄方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-085342
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283480
出願日： 1996年04月08日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】界面活性剤が添加された洗浄液により洗浄した半導体基板に付着した界面活性剤を取り除き、洗浄効果をより向上させ得る洗浄方法を提供する。【解決手段】界面活性剤が添加された洗浄液により半導体基板を洗浄した後、該半導体基板をオゾン水により洗浄することを特徴とする半導体基板の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも1つ以上の炭化水素基を含む界面活性効果のある添加剤が添加された洗浄液により半導体基板を洗浄した後、該半導体基板をオゾン水により洗浄することを特徴とする半導体基板の洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , C30B 33/10

FI (3件)：

H01L 21/304 341 L , H01L 21/304 341 M , C30B 33/10

引用特許：

審査官引用 (4件)

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