特許
J-GLOBAL ID：200903052273221129

基板処理装置

発明者：
吉岡 勝司

吉岡 勝司 について

, 
左成 卓也

左成 卓也 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-081478
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283899
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】 ミストの付着による基板裏面の汚染が防止または軽減された基板処理装置を提供する。【解決手段】 回転保持部20の下方に円板状のカップベース30が配置され、カップベース30に環状の中カップ6が取り付けられている。カップベース30の中央部には貫通孔30aが形成され、モータ1の回転軸2が貫通孔30aを貫通して配設され、その先端に回転保持部20が取り付けられている。カップベース30には貫通孔30aに沿って複数の通気孔31が形成されている。通気孔31は回転保持部20の外周部よりも内側に相当する位置に配置されている。回転保持部20に保持された基板Wが高速回転すると、通気孔31を通り基板Wの裏面側に空気が供給され、基板Wの裏面側の空間が負圧となることが防止され、それにより基板Wの裏面側へのミストの回り込みが防止される。
請求項（抜粋）：
基板を保持して回転させつつ基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段を回転駆動する駆動手段と、前記基板保持手段に保持された基板の裏面に対向するように配置された平板状のベース部材と、前記基板保持手段に保持された基板と前記ベース部材との間の空間の周囲を取り囲む整流部材とを備え、前記ベース部材には通気孔が形成されたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/68
FI (6件)：
H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/68 P
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 塗布装置及び塗布方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-158151   出願人：富士通株式会社
  • 特開昭59-120270
  • レジスト塗布装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-028789   出願人：富士通株式会社
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