特許
J-GLOBAL ID：200903052312615040

永久マスクレジスト及び感光性樹脂組成物の使用

発明者：
吉田 哲也

吉田 哲也 について

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笹原 直樹

笹原 直樹 について

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土屋 勝則

土屋 勝則 について

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中野 昭夫

中野 昭夫 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  清水 義憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-142849
公開番号（公開出願番号）：特開2004-252485
出願日： 2004年05月12日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：
【課題】 永久マスクレジストとしての可とう性、はんだ耐熱性及び耐薬品性を低下させずに、高い耐湿絶縁性を示す永久マスクレジスト、永久マスクレジストの製造法並びに永久マスクレジスト積層基板を提供する。【解決手段】 基板上の下記一般式(I)で表される基を有する永久マスクレジスト、感光性樹脂組成物の層に、活性光線を照射し、その後、金属イオンを混合又は溶解させてなる水洗液や現像液で水洗現像することを特徴とする永久マスクレジストの製造法。【化1】(式中、Xはn価の金属イオンを示し、nは金属イオンの価数である)【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
一般式(I)
IPC (3件)：
G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40
FI (4件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 501
Fターム (29件)：
2H025AB08 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CA00 ,  2H025CB43 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30 ,  2H096AA24 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096GA10 ,  2H096HA01 ,  2H096HA03 ,  5E314AA27 ,  5E314BB02 ,  5E314BB11 ,  5E314CC15 ,  5E314DD07 ,  5E314FF06 ,  5E314FF19 ,  5E314GG01 ,  5E314GG08
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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