特許
J-GLOBAL ID:200903052432339829
極端紫外線光学系及び露光装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-319560
公開番号(公開出願番号):特開2005-086148
出願日: 2003年09月11日
公開日(公表日): 2005年03月31日
要約:
【課題】 迷光の悪影響を低減して結像性能を向上することのできる極端紫外線光学系と、そのような光学系を備える露光装置を提供する。 【解決手段】 露光装置の投影光学系は、計6枚のミラー(多層膜ミラー)M1〜M6を備えている。各ミラーM1〜M6は、それぞれホールド機構に保持されており、位置調整機構で微動可能となっている。この光学系には、計6個の迷光絞り41〜46が配置されている。各迷光絞り41〜46は、EUV光束Eからの迷光が光学系下流のウェハWに到達するのを防ぐためのものである。この露光装置によれば、迷光絞り41〜46によって迷光を遮断できるので、露光への迷光の悪影響を低減し、露光パターンのコントラストを向上させることができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
極端紫外線を反射する複数の多層膜反射鏡(ミラー)と、
該複数のミラー間又はその近傍に配置された迷光絞りと、
を備える極端紫外線光学系であって、
該光学系の光軸に交差する面のうち、光学系の光束が1回のみ通過する面に沿って前記迷光絞りが配置されていることを特徴とする極端紫外線光学系。
IPC (2件):
FI (3件):
H01L21/30 531A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516Z
Fターム (7件):
5F046CB02
, 5F046CB05
, 5F046DA01
, 5F046GA11
, 5F046GA12
, 5F046GA14
, 5F046GB01
引用特許:
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